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  • 22
    2025-09
    注入機離子源配件定制化流程的核心環(huán)節(jié)包括方案設計、樣品試制與性能驗證。方案設計階段,工程師結合調研數據,選用適配的耐高溫、耐離子轟擊材質,優(yōu)化配件結構以適配設備安裝空間,同時參考行業(yè)質量標準明確生產工藝細節(jié)...
  • 22
    2025-09
    核心功能配件是半導體設備配件中直接參與半導體制造關鍵工藝的組件,典型品類包括光刻設備的光刻鏡頭組件、沉積設備的靶材組件、刻蝕設備的射頻電極配件等。
  • 22
    2025-09
    當前,丹東半導體設備產業(yè)呈現細分領域優(yōu)勢突出的特點。在晶體定向儀、真空回流爐等產品方向,企業(yè)憑借核心技術創(chuàng)新獲得市場認可,產品不僅覆蓋國內主要半導體廠商,還出口至多個海外市場及地區(qū)。
  • 18
    2025-09
    判斷丹東離子源配件與離子源型號的適配性,首要關注規(guī)格參數匹配度。需核對配件的額定電壓、電流范圍與離子源的輸出參數是否契合,例如適配高功率離子源的丹東離子源配件,其電極組件需具備更高的耐高溫、耐高壓性能...
  • 18
    2025-09
    從材質選擇來看,半導體行業(yè)的蒸發(fā)臺坩堝需優(yōu)先選用高純度、耐高溫且化學穩(wěn)定性強的材質,如高純度石英、氮化硼等。
  • 18
    2025-09
    處理含輕微腐蝕性的蒸發(fā)物料時,普通鋼材制成的蒸發(fā)臺行星鍋易出現腔壁銹蝕,不僅影響物料純度,還需每半年至一年更換一次,累計成本遠高于優(yōu)質不銹鋼材質產品。
  • 18
    2025-09
    針對離子源弧光室的清潔,應選用與腔壁材質適配的中性清潔試劑,搭配無塵軟布輕輕擦拭腔體內壁,對于電極周邊的頑固殘留,可使用軟毛刷蘸取少量清潔試劑細致清理,避免使用硬質工具造成表面劃傷...
  • 18
    2025-09
    清潔蒸發(fā)臺配件前,需先確保真空蒸發(fā)系統完全斷電并降至常溫,避免高溫狀態(tài)下操作引發(fā)安全事故或損傷配件。隨后根據配件類型與結構,拆卸可單獨清潔的蒸發(fā)臺配件,如蒸發(fā)坩堝、金屬擋板等,注意記錄配件安裝位置,便于后續(xù)準確復位。
  • 17
    2025-09
    在實際應用中,注入機離子源燈絲的材質選擇需重點適配SiC晶圓的注入需求,通常優(yōu)先選用鎢錸合金等耐高溫材質,這類材質能在SiC注入所需的高溫環(huán)境下保持結構穩(wěn)定,減少燈絲因高溫氧化或形變導致的性能衰減...
  • 17
    2025-09
    實際檢測中,首先可采用外觀檢測法,借助高倍放大鏡或工業(yè)相機對注入機離子源配件表面進行細致觀察,重點排查是否存在肉眼可見的涂層剝落、劃痕或顏色不均,這類現象往往是涂層磨損的初期信號...