注入機(jī)離子源是離子注入工藝中產(chǎn)生離子氣體的核心單元,直接主導(dǎo)離子的生成、純化與輸出,適配半導(dǎo)體晶圓摻雜、材料改性等關(guān)鍵場景,其作用發(fā)揮直接影響離子束品質(zhì)與工藝效果。注入機(jī)離子源需在真空環(huán)境中完成氣體電離,兼顧離子產(chǎn)出效率與純度,銜接氣體供給與離子加速環(huán)節(jié),是離子注入設(shè)備高效運(yùn)轉(zhuǎn)的核心支撐,適配不同規(guī)格、不同劑量的離子注入工藝需求。
注入機(jī)離子源的核心作用是實(shí)現(xiàn)氣體電離,生成目標(biāo)離子氣體。它通過燈絲發(fā)射電子,電子與通入的摻雜氣體分子碰撞,打破氣體分子化學(xué)鍵,使氣體電離為等離子體,即離子氣體,為后續(xù)離子篩選、加速提供基礎(chǔ),是離子產(chǎn)生的核心環(huán)節(jié)。
注入機(jī)離子源可篩選純化離子氣體,提升離子純度。電離過程中會(huì)產(chǎn)生多種雜質(zhì)離子,離子源通過內(nèi)置磁場或電場組件,分離目標(biāo)離子與雜質(zhì)離子,剔除無效離子,減少雜質(zhì)對半導(dǎo)體加工效果的影響,適配精密半導(dǎo)體制造的嚴(yán)苛工況,支撐摻雜工藝的穩(wěn)定性。
此外,注入機(jī)離子源可調(diào)控離子氣體輸出穩(wěn)定性。通過優(yōu)化放電參數(shù)與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),控制離子氣體的產(chǎn)出速率與濃度,維持離子束持續(xù)穩(wěn)定輸出,避免離子氣體波動(dòng)導(dǎo)致的摻雜偏差,適配規(guī)?;A生產(chǎn)需求,凸顯其在離子注入工藝中的核心價(jià)值。
